掃描電子顯微鏡(SEM) 是一種介于透射電子顯微鏡和光學顯微鏡之間的一種觀察手段。其利用聚焦的很窄的高能電子束來掃描樣品, 通過光束與物質間的相互作用, 來激發各種物理信息, 對這些信息收集、放大、再成像以達到對物質微觀形貌表征的目的。

 

掃描電鏡的特點介紹：

 

1.可以觀察直徑為0 ～30mm的大塊試樣（在半導體工業可以觀察更大直徑），制樣方法簡單。

 

2.場深大（三百倍于光學顯微鏡），適用于粗糙表面和斷口的分析觀察；圖像富有立體感、真實感、易于識別和解釋。

 

3.放大倍數變化范圍大，一般為15 ～200000 倍，對于多相、多組成的非均勻材料便于低倍下的普查和高倍下的觀察分析。

 

4.具有相當高的分辨率，一般為3.5 ～6nm。

 

5.可以通過電子學方法有效地控制和改善圖像的質量，如通過調制可改善圖像反差的寬容度，使圖像各部分亮暗適中。采用雙放大倍數裝置或圖像選擇器，可在熒光屏上同時觀察不同放大倍數的圖像或不同形式的圖像。

 

6.可進行多種功能的分析。與X射線譜儀配接，可在觀察形貌的同時進行微區成分分析；配有光學顯微鏡和單色儀等附件時，可觀察陰極熒光圖像和進行陰極熒光光譜分析等。

 

7.可使用加熱、冷卻和拉伸等樣品臺進行動態試驗，觀察在不同環境條件下的相變及形態變化等。